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產品詳情

光化學高壓反應釜

簡要描述:巖征儀器生產的光化學高壓反應釜又稱為外照式光催化反應器,是進行光化學催化、合成、降解等反應而設計的新型反應釜。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-05-23
  • 瀏覽次數:4205
詳情介紹

 光化學高壓反應釜適用工藝:光催化反應、二氧化碳還原、二氧化碳還原制甲醇、二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域。適合少量樣品的反應,是昂貴或低產量原材料贗品測試的理想的反應裝置;根據實驗的條件,高壓光化學反應釜標配316L不銹鋼,鈦合金、哈氏合金、鋯材等非標材質。

 光化學高壓反應釜適產品特點:體積小巧,整機結構簡單可靠,經濟、耐用;配件齊全,標配加熱控溫裝置、壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門,可方便的實現微量反應實驗;釜體、加熱器可*分離,極大的方便了反應釜的拆卸工作,提高工作效率。

 

技術參數

開合方式

KF 快擰式

密封方式

O 型圈自緊密封

換熱方式

電加熱

加熱功率

500~1500W (注 1)

設計溫度

250℃

使用溫度

50~200℃ (用做電催化時高 80℃)

控溫精度

±1℃ (無強放熱吸熱情況下)

設計壓力

150bar

爆破壓力

125bar

使用壓力

-1~100bar (注 2)

標準材質

316L (注 3)

攪拌功率

80W

攪拌速度

150~1500r/min(注 4)

操作系統

7 寸電容觸摸系統

注 1

不同容積加熱功率不同

注 2

使用負壓時應特殊說明,配裝負壓表

注 3

有哈氏合金,蒙乃爾合金,鋯材,因科鎳,鈦材等特殊材質可訂制

注 4

磁耦攪拌 150~1000r/min,標配三葉推進式槳葉

操作界面

7 英寸真彩電容觸控屏,模塊化顯示,用戶自定義顯示模塊,自定模塊的開啟和關閉,多級菜單,多窗口分級管理設置

溫控模塊

多段 PID 智能溫控,支持自整定,雙控溫模式,主控釜內溫度,輔控加熱

爐溫度,溫控精度±1℃

攪拌模塊

PWM 精準調速,高可達 1000r/min,轉速精度 0~5r/min

定時模塊

具有雙定時模式,保溫定時和啟動定時

壓力模塊

英國進口品牌,精度高達 0.25%,316L 材質,壓力數顯,帶有超壓報警聯鎖,自定義上限壓力

安全聯鎖

超溫超壓報警,停止工作,切斷加熱,用戶可自定義上限溫度

遠程通訊

具備遠程控制功能,設有 MODBUS RTU 通訊模塊

上位機軟件

* 溫度、攪拌、定時等可通過軟件在電腦中可查看設置;

* 歷史數據、運行的數據實時可查;

* 可生成溫度、壓力、轉速等數據曲線;

* 可數據導出以 Excel 表格形式保存;

* 可查看設備報警記錄;

* 具備權限管理功能;

注 1

無強放熱吸熱情況下

1

恒壓加

定量等壓加料

2

在線取樣過濾

標準取液探底管底部加裝過濾器(僅限 316L 材質)

3

閥門

可非標增加進氣或進液閥(1~2 只)

4

配件品

閥門可非標訂制進口 Swagelok/FITOK 閥門,進口壓力表等

                                                                          

 

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